- Permintaan AI Jadi Pendorong Utama
Industri semikonduktor China kembali mencatat tonggak penting. Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) dilaporkan mulai menguji mesin litografi deep-ultraviolet (DUV) buatan lokal pertama yang dikembangkan oleh startup Shanghai, Yuliangsheng.
Langkah ini memperlihatkan upaya serius Beijing dalam melepaskan ketergantungan terhadap teknologi impor, khususnya dari AS dan sekutunya, di tengah sanksi dan pembatasan ekspor.
Baca juga: Industri Chip China Tertinggal Jauh dari Barat, Litografi Biang Keroknya |
SCROLL TO CONTINUE WITH CONTENT
Menurut laporan Financial Times, mesin DUV immersion ini dipakai SMIC untuk produksi chip berbasis proses 7nm, yang sangat vital bagi pengembangan kecerdasan buatan (AI). Sebelumnya, China sangat bergantung pada peralatan litografi dari ASML Belanda. Kini, dengan hadirnya mesin lokal, SMIC berpotensi memperkuat pasokan chip AI dalam negeri.
Meski begitu, tantangan masih besar. Sumber menyebutkan tingkat keberhasilan awal mesin ini masih rendah karena litografi membutuhkan presisi ekstrem. Walau diklaim bisa mendukung produksi hingga 5nm, fokus awal tetap pada 7nm demi efisiensi dan kestabilan produksi.
Permintaan AI Jadi Pendorong Utama
Ledakan kebutuhan chip di China, terutama dari perusahaan AI seperti Huawei dan Baidu, membuat pemerintah mendorong swasembada semikonduktor dengan subsidi besar-besaran. SMIC sebelumnya sempat mengandalkan mesin DUV impor lama, namun keterbatasan pasokan akibat larangan ekspor AS sejak 2022 menjadi hambatan besar.
Dengan mesin Yuliangsheng, SMIC berharap dapat menjaga volume produksi meski harus mengorbankan yield (tingkat hasil baik). Pendekatan ini mirip dengan strategi Huawei Mate 60 yang tetap diproduksi meski hasil chip tidak setinggi standar global.
Jika uji coba sukses, analis memprediksi langkah ini bisa mempercepat target Tiongkok mencapai 70% kemandirian rantai pasok semikonduktor pada 2030. Pasar pun bereaksi positif, saham SMIC di Hong Kong melonjak hingga 5% setelah kabar uji coba ini.
Namun, para ahli menekankan bahwa jalan menuju teknologi litografi EUV (extreme ultraviolet) untuk chip di bawah 5nm masih jauh, mengingat monopoli ASML di sektor tersebut.
Terlepas dari itu, bagi China, terobosan ini bisa menjadi batu loncatan menuju era baru produksi chip yang lebih mandiri di tengah tekanan geopolitik global.
Baca juga: China Sukses Ciptakan Mesin Litografi E-Beam Xizhi, Ancaman Baru bagi AS |
China Gelontorkan Dana Rp 763 T untuk Persaingan Industri Chip
China Gelontorkan Dana Rp 763 T untuk Persaingan Industri Chip
(afr/afr)
作者:Adi Fida Rahman -,文章来源detik_id,版权归原作者所有,如有侵权请联系本人删除。
风险提示:本文所述仅代表作者个人观点,不代表 Followme 的官方立场。Followme 不对内容的准确性、完整性或可靠性作出任何保证,对于基于该内容所采取的任何行为,不承担任何责任,除非另有书面明确说明。


加载失败()